基本信息
| 标准名称： | 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则 |
| 英文名称： | Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysis of mask defect inspection systems |
| 中标分类： | 电子元器件与信息技术 >> 微电路 >> 半导体集成电路 |
| ICS分类： | 电子学 >> 集成电路、微电子学 |
| 发布部门： | 国家质量技术监督局 |
| 发布日期： | 1999-09-01 |
| 实施日期： | 2000-06-01 |
| 首发日期： | 1999-09-13 |
| 作废日期： | 1900-01-01 |
| 主管部门： | 国家标准化管理委员会 |
| 归口单位： | 全国半导体材料和设备标准化技术委员会 |
| 起草单位： | 中国科学院微电子中心 |
| 出版社： | 中国标准出版社 |
| 出版日期： | 2004-08-22 |
| 页数： | 平装16开， 页数：13， 字数：21千字 |
| 书号： | 155066.1-16384 |
适用范围
本标准的目的是制定一套可用于评估掩模缺陷检查系统灵敏度的测试掩模。这套测试掩模包括：含特制图形缺陷的测试芯片，以及不含特制图形缺陷的参考测试芯片。由于测试芯片是由各种单集合而成，所以在本标准中，测试芯片是用单图形、单图形中的特制缺陷、以及单的布局来定义的。此外，测试掩模是通过规定测试芯片的排列来定义的。本标准还讲述这套掩模的用法。
前言
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所属分类： 电子元器件与信息技术 微电路 半导体集成电路 电子学 集成电路 微电子学